產(chǎn)品分類
PVT法長晶爐——電阻爐
所屬分類：
SiC單晶生長設備
PVT法長晶爐
概要：
本設備主要用于碳化硅（SiC）、氮化鋁（AIN）單晶生長。
關鍵詞：
PVT法長晶爐——電阻爐
PVT法長晶爐——電阻爐
產(chǎn)品概述/Product Introduction：
本設備主要用于碳化硅（SiC）、氮化鋁（AIN）單晶生長。
This equipment is mainly used for the single crystal growth of siliconcarbide(SiC) and aluminumnitride(AIN).
提供6/8英寸工藝
Provide6/8 inches process
產(chǎn)品特點/Product Characteristics：
可生長8英寸碳化硅晶體
Growable 8-inch silicon carbide crystal
配備坩堝升降及旋轉功能
Equipped with crucible lifting and rotating functions
自主開發(fā)的控制系統(tǒng)，可遠程控制
Independently developed control system, capable of remote control
晶體尺寸：6/8/12英寸
Crystal size: 6/8/12 inches
加熱溫度：2400℃
Heating temperature: 2400℃
加熱方式：感應/電阻
Heating method: induction/resistance
溫度檢測：高溫計
Temperature detection: Pyrometer
極限真空：9.5E-5Pa
Extreme vacuum: 9.5E-5Pa
氣路系統(tǒng)：3路
Gas system: 3 channels
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PVT法長晶爐——感應爐
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